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第277章 情绪点兑换 光刻机双工件台与照明系统初步原理（第1页）

深夜，香港浅水湾別墅的书房里，只有檯灯亮著一圈昏黄的光。

王恪面前的笔记本摊开著，上面是龙芯量產遇到的各种工艺问题：东芝的1。2微米產线良率始终卡在70%，无论如何优化都上不去。张维从东京发回的报告里写得很清楚：“不是设计问题，是製造问题。我们的设计已经做到1微米以下的理论极限，但东芝的產线只能稳定做1。5微米，1。2微米已经是超频运行。”

问题归根结底是设备。光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备……这些核心装备，中国造不了，日本也造不了最好的——最好的在荷兰asml，在美国应用材料，在德国蔡司。而这些公司对中国有出口限制，就算能买到，也是落后两代的產品。

王恪放下笔，揉了揉发胀的太阳穴。窗外的海一片漆黑，只有远处灯塔有规律地闪烁。

他调出系统界面。自从“崑崙”项目成功，情绪点又涨了一大波，现在余额是：1，287，654点。主要来自航天和军工部门的认可，来自高校师生的感激，来自明远员工的自豪。

足够兑换很多东西了。

他搜索“光刻机”。

列表弹出，价格高得嚇人：

【接触式光刻机基础原理（1970年代水平）：50，000点】

【接近式光刻机技术详解（1980年代主流）：150，000点】

【步进式光刻机核心技术（超前5年）：500，000点】

【浸润式光刻机概念雏形（超前10年）：1，200，000点】

【极紫外（euv）光刻技术前瞻（超前20年）：5，000，000点（需前置知识解锁）】

王恪的目光落在第三项：“步进式光刻机核心技术”。这是未来十年的主流技术，能把晶片工艺推进到0。5微米甚至0。35微米。但五十万点，几乎是他现有点数的一半。

他往下翻，看到了更细分的选项：

【光刻机双工件台设计原理：180，000点】

【光刻机照明系统与光源技术：120，000点】

【光刻机物镜系统与像差校正：200，000点】

【光刻机对准与测量系统：100，000点】

【光刻机控制系统与软体：80，000点】

就像买车，整车买不起，可以先买零件。

王恪盯著“双工件台”和“照明系统”这两项。双工件台是步进式光刻机的核心创新——一个台子在曝光，另一个台子在对准和测量，交替工作，大幅提高生產效率。照明系统则决定了光刻的解析度和精度。

两者加起来三十万点，还在承受范围內。

但要兑换吗？兑换了给谁用？怎么用？

光刻机不是晶片，不是靠几个工程师在实验室就能做出来的。它需要精密光学、精密机械、自动控制、软体算法、材料科学……几乎涵盖了所有高端製造领域。以中国现在的工业基础，就算有了原理图，要造出来也需要十年、二十年，甚至更久。

王恪的手指悬在虚擬界面上，很久没动。

窗外，海浪声阵阵。

他想起了“崑崙”项目。九个月，二十三个人，从零开始做出军用级晶片。那时候很多人也说不可能，但他们做到了。

他想起了绵阳深山里那些专家，那些白髮苍苍依然熬夜画图的老工程师。

他想起了清华大学实验室里那些年轻的面孔，那些渴望知识的眼睛。

最后，他想起了系统刚绑定时的那个任务：“辅助文明崛起”。